產(chǎn)品型號：GMD2000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海市

更新時間：2024-06-11

產(chǎn)品簡介：

GMD2000系列顏料研磨分散設(shè)備的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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zui高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。此款研磨分散機比普通的分散機機的速度達到4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。

幾種顏料研磨分散設(shè)備的比較  

以天然石英砂、玻璃珠或陶瓷珠子分散介質(zhì)的砂磨機，對于細顆粒而又易分散的合成顏料、粗顆?；蛭⒎刍奶烊?/span>顏料和填料等易流動的漆漿，都是高效的分散設(shè)備。其生產(chǎn)能力高、分散精度好、能耗低、噪音小，溶劑揮發(fā)少、結(jié)構(gòu)簡單、便于維護、能連續(xù)生產(chǎn)。因此，在多種類型的磁漆和底漆生產(chǎn)中獲得了廣泛的應(yīng)用。但是，它不適用于生產(chǎn)膏狀或厚漿型的懸浮分散體，用于加工炭黑等細顆粒而難分散的合成顏料時生產(chǎn)效率低，用于生產(chǎn)磨蝕性顏料時則易于磨損，這些因素都應(yīng)在選用設(shè)備時結(jié)合具體情況予以考慮。

球磨機同樣也適用于分散易流動的懸浮分散體系，它適用于分散任何品種的顏料，對于分散粗顆粒的顏料、填料、磨蝕性顏料和細顆粒又難分散的合成顏料有著突出的效果。臥式球磨機由于密閉操作，故適用于要求防止溶劑揮發(fā)及含**物的產(chǎn)品。由于其研磨細度難以達到15um以下，且清洗換色困難，故不適于加工高精度的漆漿及經(jīng)常調(diào)換花色品種的場合。

三輥機生產(chǎn)能力一般較低、結(jié)構(gòu)復(fù)雜，手工操作勞動強度大、敞開操作溶劑揮發(fā)損失大，故應(yīng)用范圍受到一定限制。但是它適用于高粘度漆漿和厚漿型產(chǎn)品的特點為砂磨機和球磨機所不及。因而被廣泛用于厚漆、膩子及部分厚漿狀美術(shù)漆生產(chǎn)。

三輥機易于加工細顆粒而又難分散的合成顏料及細度要求為5—10um的高精度產(chǎn)品。目前對于某些貴重顏料，一些廠家為充分發(fā)揮其著色力、遮蓋力等顏料特性，以節(jié)省用量，往往采用三輥機研磨之。由于三輥機中不等速運轉(zhuǎn)的兩輥之間能產(chǎn)生巨大的剪切力，導(dǎo)致高固體含量的漆料對顏料濕潤充分，從而有利于獲得較好的產(chǎn)品質(zhì)量，因而被一些廠家用來生產(chǎn)高質(zhì)量的面漆。除此之外，由于三輥機清洗換色比較方便，也常和砂磨機配合應(yīng)用，用于制造復(fù)色磁漆用的少量調(diào)色漆。

   因為好多漿料如油墨,顏料 單用一種膠體磨或分散機是無法達到客戶所要求的理想粒徑要求已經(jīng)分散效果要求。SGN客戶在SGN實驗室實驗室做完實驗后經(jīng)常會遇到這樣的痛苦，物料已經(jīng)用N多種國產(chǎn)研磨設(shè)備處理過了，達不到效果，zui后放下國產(chǎn)設(shè)備的價格優(yōu)勢找到中德合作的SGN，雖然SGN研磨分散設(shè)備制造精密，但也不是萬能的，在客戶要求SGN重新做處理方案時，SGN研發(fā)工程師協(xié)同客戶一起研發(fā)出了研磨分散機，SGN公司總為研磨分散機定型號為GMD2000系列。研磨分散機的研制，成功解決了原有設(shè)備粒徑處理不理想的問題。一方面解決清洗難得問題,二來解決腐蝕問題,

   研磨分散設(shè)備的類型是決定色漆生產(chǎn)工藝過程的關(guān)鍵。選用的研磨分散設(shè)備不同，工藝過程也不同。例如砂磨機分散工藝，一般需要在附有高速分散機的預(yù)混合罐中進行研磨漆漿的預(yù)混合，再以砂磨機研磨分散至細度合格。由于砂磨機研磨漆漿粘度較低，易于流動，大批量生產(chǎn)時可以機械泵為動力，通過管道進行輸送；小批量多品種生產(chǎn)也可以用容器移動的方式進行漆漿的轉(zhuǎn)移。球蘑機工藝的配料預(yù)混合與研磨分散則在球磨筒**一并進行，研磨漆漿可用管道輸送（以機械泵或靜位差為動力）和活動容器運送兩種方式。三輥機分散因漆漿較稠，故一般用換罐式攪拌混合，以活動容器運送的方式實現(xiàn)漆漿的傳送。

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納米研磨分散設(shè)備   

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impact force）將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)?/span>研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

    納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    *級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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